| DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1364/OL.30.001867 |
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| Auteur | Rechercher : Hnatovsky, C.1; Rechercher : Taylor, R. S.1; Rechercher : Simova, E.1; Rechercher : Bhardwaj, V. R.1; Rechercher : Rayner, D. M.1; Rechercher : Corkum, P. B.1 |
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| Affiliation | - Conseil national de recherches du Canada
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| Format | Texte, Article |
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| Sujet | laser materials processing; micro-optical devices; microstructure fabrication |
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| Résumé | We fabricate microchannels in fused silica by femtosecond laser irradiation followed by etching in diluted hydrofluoric acid. We show a dramatic dependence of the etch rate on the laser polarization, spanning 2 orders of magnitude. We establish the existence of an energy-per-pulse threshold at which etching of the laser-modified zones becomes highly polarization selective. The enhanced selective etching is due to long-range, periodic, polarization-dependent nanostructures formed in the laser-modified material. |
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| Date de publication | 2005-07-15 |
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| Dans | |
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| Langue | anglais |
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| Publications évaluées par des pairs | Oui |
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| Numéro NPARC | 12339171 |
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| Identificateur de l’enregistrement | 06499752-0f0b-4708-85cb-5226381a0c5e |
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| Enregistrement créé | 2009-09-11 |
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| Enregistrement modifié | 2020-04-07 |
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