Atomic layer deposition of TiN for the fabrication of nanomechanical resonators

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1116/1.4790132
AuteurRechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : ; Rechercher :
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Technologies de sécurité et de rupture
FormatTexte, Article
SujetCandidate materials; Chemical compositions; Grain size; High resolution; Mechanical resonance; Nano beams; Nanomechanical resonators; Reflectometry; Resonance frequencies; Resonance testing; Stress state; Deposition rates; Electron beam lithography; Fabrication; Films; Interferometry; Photoelectrons; Resonators; Titanium nitride; X ray diffraction; X ray photoelectron spectroscopy; Atomic layer deposition
Résumé
Date de publication
Dans
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC21271820
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Identificateur de l’enregistrement0f328e26-d0ca-4a85-8fae-e4f314a540d0
Enregistrement créé2014-04-22
Enregistrement modifié2020-04-22
Date de modification :