| DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1002/adma.200700731 |
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| Auteur | Rechercher : Hessel, Colin M.; Rechercher : Summers, Mark A.; Rechercher : Meldrum, Al; Rechercher : Malac, Marek1; Rechercher : Veinot, Jonathan G. C. |
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| Affiliation | - Conseil national de recherches du Canada. Institut national de nanotechnologie
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| Format | Texte, Article |
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| Sujet | coatings; doping; erbium; luminescence; nanocrystals, inorganic; patterning; silica; silicon |
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| Résumé | Hydrogen silsesquioxane is used as a solution-borne molecular precursor in the fabrication of highly luminescent thin films of SiO2 containing silicon nanocrystals. Films are readily formed on non-flat substrates (e.g., optical fibers) and patterned using e-beam lithography (see figure). |
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| Date de publication | 2007-10-16 |
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| Dans | |
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| Langue | anglais |
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| Publications évaluées par des pairs | Oui |
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| Numéro NPARC | 12330151 |
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| Identificateur de l’enregistrement | 225de054-1e1c-44a4-a7a0-3fc5a4a2af03 |
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| Enregistrement créé | 2009-09-10 |
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| Enregistrement modifié | 2020-05-10 |
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