Nanoscale plasmonic stamp lithography on silicon
Nanoscale plasmonic stamp lithography on silicon
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DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1021/acsnano.5b00312 |
Auteur | Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1 |
Affiliation |
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Format | Texte, Article |
Sujet | Block copolymers; Copolymers; Electric fields; Films; Functional materials; Gold; Hydrosilylation; Lithography; Nanolithography; Nanotechnology; Semiconducting silicon; Semiconductor device manufacture; Silicon; Surface plasmon resonance; Block copolymer self-assembly; Directed self-assembly; Electron hole pairs; Functionalizations; Localized surface plasmon; Nano pattern; Nanoscale lithography; Semiconductor industry; Plasmons |
Résumé | |
Date de publication | 2015-02-05 |
Dans | |
Langue | anglais |
Publications évaluées par des pairs | Oui |
Numéro NPARC | 21275801 |
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Identificateur de l’enregistrement | 4036d732-6acd-437a-a79c-ea18086002db |
Enregistrement créé | 2015-07-14 |
Enregistrement modifié | 2020-06-04 |
- Date de modification :