Exposure characteristics of cobalt fluoride (CoF2) self-developing electron-beam resist on sub-100 nm scale
Exposure characteristics of cobalt fluoride (CoF2) self-developing electron-beam resist on sub-100 nm scale
DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.1487914 |
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Format | Texte, Article |
Sujet | cobalt compounds; electron energy loss spectra; electron resists; nanostructured materials; transmission electron microscopy |
Résumé | |
Date de publication | 2002-07-15 |
Dans | |
Langue | anglais |
Publications évaluées par des pairs | Oui |
Publication du CNRC | Cette publication n’est pas du CNRCCe sont des publications qui ont été rédigées par un auteur du CNRC, mais avant que celui-ci soit employé du CNRC. |
Numéro NPARC | 12328545 |
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Identificateur de l’enregistrement | 4abdb180-f750-4d41-a458-37f856e2e1d2 |
Enregistrement créé | 2009-09-10 |
Enregistrement modifié | 2020-04-06 |
- Date de modification :