Growth and characterization of anodic oxides on Si(100) formed in 0.1 M hydrochloric acid
Growth and characterization of anodic oxides on Si(100) formed in 0.1 M hydrochloric acid
DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.362502 |
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Affiliation |
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Format | Texte, Article |
Sujet | electrolytes; ellipsometry; film growth; oxidation; photoelectron spectroscopy; silicon; silicon oxides; xrd |
Résumé | |
Date de publication | 1996-06-01 |
Dans | |
Langue | anglais |
Numéro NPARC | 12327992 |
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Identificateur de l’enregistrement | 4ff86f5c-457b-44e4-86ad-d4e7423005ce |
Enregistrement créé | 2009-09-10 |
Enregistrement modifié | 2020-03-20 |
- Date de modification :