Growth of anodic oxides on Si(100) in 0.1M HCl : influence of the initial electrochemical potential on the growth mechanism and properties of the oxide
Growth of anodic oxides on Si(100) in 0.1M HCl : influence of the initial electrochemical potential on the growth mechanism and properties of the oxide
Auteur | Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1 |
---|---|
Affiliation |
|
Format | Texte, Chapitre de livre |
Dans | |
Série | |
Langue | anglais |
Numéro NPARC | 12332859 |
Exporter la notice | Exporter en format RIS |
Signaler une correction | Signaler une correction (s'ouvre dans un nouvel onglet) |
Identificateur de l’enregistrement | 515dff49-aa01-4d39-9d27-e4a161b41a0b |
Enregistrement créé | 2009-09-10 |
Enregistrement modifié | 2020-03-03 |
- Date de modification :