STM and HREELS investigation of gas phase silanization on hydroxylated Si(100)

Par Conseil national de recherches du Canada

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DOI	Trouver le DOI : https://doi.org/10.1016/j.susc.2010.03.003
Auteur	Rechercher : Fan, C.¹; Rechercher : Lopinski, G. P.¹
Affiliation	Conseil national de recherches du Canada. Institut Steacie des sciences moléculaires du CNRC
Format	Texte, Article
Sujet	Silane; HREELS; Gas phase; Silicon; Functionalization
Résumé	The gas phase anhydrous reaction of glycidoxypropyldimethylethoxysilane (GPDMES) with a model hydroxylated surface has been investigated using high-resolution electron energy loss spectroscopy (HREELS) and scanning tunneling microscopy (STM).Water dissociation on the clean reconstructed (2×1)-Si(100) surface was used to create an atomicallyflat surface with ~0.5 MLof hydroxyl groups. Exposure of this surface to GPDMES at room temperature under vacuum was found to lead to formation of covalent Si–O–Si bonds although high exposures (6×108 L) were required for saturation. STM images at the early stages of reaction indicate that the reaction occurs randomly on the surface with no apparent clustering. The STM images together with semiempirical (AM1) calculations provide evidence for hydrogen bonding interactions between the oxygen atoms in the molecule and surface hydroxyl groups at low coverage.
Date de publication	2010-06-15
Dans	Surface Science 604, nº 11-12 (15 juin 2010) : 996–1001.
Langue	anglais
Publications évaluées par des pairs	Oui
Publication du CNRC	Cette publication n’est pas du CNRC Ce sont des publications qui ont été rédigées par un auteur du CNRC, mais avant que celui-ci soit employé du CNRC.
Numéro NPARC	17379832
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Identificateur de l’enregistrement	57cafeb4-43a3-4485-9815-bcf3d8e8fd2e
Enregistrement créé	2011-03-23
Enregistrement modifié	2020-04-17

Date de modification :: 2024-05-18