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Fiber-chip grating coupler based on interleaved trenches with directionality exceeding 95%

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1364/OL.39.005351
AuteurRechercher : ; Rechercher : 1Identifiant ORCID : https://orcid.org/0000-0003-4232-9130; Rechercher : ; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher :
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
Sujetgrating couplers
Résumé
We propose a fiber-chip grating coupler that interleaves the standard full and shallow etch trenches in a 220 nm thick silicon layer to provide a directionality upward exceeding 95%. By adjusting the separation between the two sets of trenches, constructive interference is achieved in the upward direction independent of the bottom oxide thickness and without any bottom reflectors, overlays, or customized etch depths. We implement a transverse subwavelength structure in the first two grating periods to minimize back-reflections. The grating coupler has a calculated coupling efficiency of CE ~ -1.05 dB with a 1 dB bandwidth of 30 nm and minimum feature size of 100 nm, compatible with deep-UV lithography.
Date de publication
Maison d’éditionOSA Publishing
Dans
  • Optics Letters 39, nº 18 : 5351–5354.
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC21272925
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Identificateur de l’enregistrement777f5949-2649-48bd-ac4d-c122e7010da9
Enregistrement créé2014-12-03
Enregistrement modifié2020-04-22
Date de modification :