| DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1364/OE.11.000775 |
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| Auteur | Rechercher : Taylor, Rod1; Rechercher : Hnatovsky, C.1; Rechercher : Simova, E.1; Rechercher : Rayner, David2; Rechercher : Mehandale, M.2; Rechercher : Bhardwaj, V. R.2; Rechercher : Corkum, Paul2 |
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| Affiliation | - Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
- Conseil national de recherches du Canada. Institut Steacie des sciences moléculaires du CNRC
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| Format | Texte, Article |
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| Résumé | The combination of selective chemical etching and atomic force microscopy has been used for the first time to make ultra-high spatial resolution (20 nm) index of refraction profiles of femtosecond laser modified structures in silica glass. |
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| Date de publication | 2003 |
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| Dans | |
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| Publications évaluées par des pairs | Oui |
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| Numéro NPARC | 12330181 |
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| Identificateur de l’enregistrement | 8aef6a57-3ab1-437b-9ff3-e6d299007468 |
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| Enregistrement créé | 2009-09-10 |
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| Enregistrement modifié | 2020-04-02 |
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