Electronic transport study of high-deposition-rate HWCVD a-Si:H by the microwave photomixing technique
Electronic transport study of high-deposition-rate HWCVD a-Si:H by the microwave photomixing technique
DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1557/PROC-664-A23.4 |
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Format | Texte, Article |
Conférence | 2001 MRS Spring Meeting: Symposium A: Amorphous and Heterogeneous Silicon-Based Films, April 16-20, 2001, San Francisco, California, U.S.A. |
Résumé | |
Date de publication | 2001 |
Dans | |
Série | |
Publications évaluées par des pairs | Oui |
Publication du CNRC | Cette publication n’est pas du CNRCCe sont des publications qui ont été rédigées par un auteur du CNRC, mais avant que celui-ci soit employé du CNRC. |
Numéro NPARC | 12346687 |
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Identificateur de l’enregistrement | 9c071cd1-779a-4cdc-9f04-ed018e34441c |
Enregistrement créé | 2009-09-17 |
Enregistrement modifié | 2020-03-27 |
- Date de modification :