A well defined electron beam source produced by the controlled field assisted etching of metal tips to < 1 nm radius
A well defined electron beam source produced by the controlled field assisted etching of metal tips to < 1 nm radius
| Format | Texte, Article |
|---|---|
| Date de publication | 2007 |
| Dans | |
| Publications évaluées par des pairs | Oui |
| Numéro du CNRC | 525 |
| Numéro NPARC | 8926365 |
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| Identificateur de l’enregistrement | 9cec4ae2-a405-47bb-8d09-521b2cfdbb2a |
| Enregistrement créé | 2009-04-23 |
| Enregistrement modifié | 2020-05-10 |
- Date de modification :