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Reactive gas ion beam generation using single atom W(111) gas field ion sources

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1017/S1431927616003937
AuteurRechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut national de nanotechnologie
FormatTexte, Article
Résumé
The scanning ion microscopy is gaining momentum as it provides several key advantages over scanning electron microscopy: (i) enhanced depth of focus, (ii) improved surface and element sensitivity, (iii) better lateral resolution, and (iv) nanomachining and milling. It uses different ions to achieve these tasks ranging from inert gases like helium and neon for imaging and ion milling. Other gases such as argon, nitrogen, and oxygen have potential for further sputtering and etching. It is therefore crucial that gas field ion sources provide necessary robustness and stability for range of various gases.
Date de publication
Dans
  • Microscopy and Microanalysis 22, nº S3 : 616–617.
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC23001313
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Identificateur de l’enregistrementb1155f34-c5f9-4c74-b920-7491dec808ea
Enregistrement créé2017-01-17
Enregistrement modifié2020-03-16
Date de modification :