Very High-Density (23 fF/um2) RF MIM Capacitors Using high-k TaTiO as the Dielectric

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1109/LED.2005.856708
AuteurRechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : 1; Rechercher :
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
Date de publication
Dans
Numéro NPARC12743948
Exporter la noticeExporter en format RIS
Signaler une correctionSignaler une correction (s'ouvre dans un nouvel onglet)
Identificateur de l’enregistrementb1379ada-bc89-4f03-85e8-c2f4d5a00f54
Enregistrement créé2009-10-27
Enregistrement modifié2020-04-07
Date de modification :