Characteristics of GaAlAs/GaAs HEMTs fabricated with xray lithography

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1109/16.477612
AuteurRechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher :
FormatTexte, Article
SujetIII-V semiconductors; aluminium compounds; characteristics measurement; gallium arsenide; high electron mobility transistors (HEMTs); microwave field effect transistors; X-ray lithography; current gain cutoff frequency; dc parameters; full field patterning technology; gate resistance; intrinsic transconductance; maximum oscillation frequency; microwave characterization; operating frequency
Résumé
Date de publication
Dans
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC12338095
Exporter la noticeExporter en format RIS
Signaler une correctionSignaler une correction (s'ouvre dans un nouvel onglet)
Identificateur de l’enregistrementb30e2fff-3087-423c-a900-5ea93825e05f
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-03-20
Date de modification :