Effect of using stencil masks made by focused ion beam milling on permalloy (Ni81Fe19) nanostructures

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1088/0957-4484/24/11/115301
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Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Technologies de sécurité et de rupture
FormatTexte, Article
SujetChemical compositions; Electron beam evaporation; Energy dispersive X ray spectroscopy; Focused ion beam milling; Kelvin probe force microscopy; Permalloy nanostructures; Silicon nitride membrane; Unintended consequences; Electron beams; Electron energy loss spectroscopy; Ion implantation; Magnetic force microscopy; Nanostructures; Nickel alloys; Silicon nitride; Transmission electron microscopy; X ray spectroscopy; Focused ion beams
Résumé
Date de publication
Dans
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC21271839
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Identificateur de l’enregistrementbb4563cf-20ae-4c25-a510-74b225a72e28
Enregistrement créé2014-04-23
Enregistrement modifié2020-04-22
Date de modification :