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Evaluation of the electrical properties of nickel silicide films for ULSI applications

Par Conseil national de recherches du Canada

AuteurRechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : ; Rechercher :
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
ConférenceThirteenth International VLSI Multilevel Interconnection Conference, 22-23 February 1996, Santa Clara, CA, USA
Date de publication
Dans
  • 1996 proceedings : Thirteenth International VLSI Multilevel Interconnection Conference (VMIC) (juin 1996) : 560–565.
Numéro NPARC12327202
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Identificateur de l’enregistrementd536e210-7ee2-4a6b-9383-eda126f10932
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-03-20
Date de modification :