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Ordered CdSe nanoparticles within self-assembled block copolymer domains on surfaces

Par Conseil national de recherches du Canada

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  1. (PDF, 366 Kio)
DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1021/la0629274
AuteurRechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher :
FormatTexte, Article
Résumé
Hierarchical, high-density, ordered patterns were fabricated on Si substrates by self-assembly of CdSe nanoparticles within ∼20-nm-thick diblock copolymer films in a controlled manner. Surface-modified CdSe nanoparticles formed well-defined structures within microphase-separated polystyrene-b-poly(2-vinylpyridine) (PS-b-P2VP) domains. Trioctylphosphine oxide (TOPO)-coated CdSe nanoparticles were incorporated into PS domains and polyethylene glycol-coated CdSe nanoparticles were located primarily in the P2VP domains. Nearly close-packed CdSe nanoparticles were clearly identified within the highly ordered patterns on Si substrates by scanning electron microscopy (SEM). Contact angle measurements together with SEM results indicate that TOPO-CdSe nanoparticles were partially placed at the air/copolymer interface.
Date de publication
Maison d’éditionAmerican Chemical Society
Dans
  • Langmuir 23, nº 4 : 1612–1614.
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Publication du CNRC
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Identificateur de l’enregistrementdb86dae3-0d2c-439f-97c0-abc036993a55
Enregistrement créé2019-04-15
Enregistrement modifié2020-05-30
Date de modification :