The influence of deposition temperature and material stress on low-loss silicon nitride films for integrated quantum optics

Par Conseil national de recherches du Canada

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DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1109/JPHOT.2023.3284204
AuteurRechercher : 1Identifiant ORCID : https://orcid.org/0000-0002-8117-0989; Rechercher : 1Identifiant ORCID : https://orcid.org/0009-0005-2635-4047; Rechercher : 2Identifiant ORCID : https://orcid.org/0000-0002-1394-1841
Affiliation
  1. Carleton University
  2. Conseil national de recherches du Canada. Électronique et photonique avancées
Bailleur de fondsRechercher : National Research Council of Canada
FormatTexte, Article
Sujetfilm deposition; film stress; microfabrication; nanotechnology; nonlinear refractive index; silicon nitrade
Résumé
Date de publication
Maison d’éditionIEEE
Licence
Dans
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
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Identificateur de l’enregistrementdce02e94-ef7b-45bc-9721-6547eb2e8089
Enregistrement créé2024-08-01
Enregistrement modifié2024-09-03
Date de modification :