Formation, decay, and spectral characterization of some alkyl-and aryl-substituted carbon-, silicon-, germanium-, and tin-centered radicals

DOI	Trouver le DOI : https://doi.org/10.1021/om50004a012
Auteur	Rechercher : Chatgilialoglu, C.¹; Rechercher : Ingold, K. U.¹; Rechercher : Lusztyk, J.¹; Rechercher : Nazran, A.S.¹; Rechercher : Scaiano, J.C.¹
Affiliation	Conseil national de recherches du Canada
Format	Texte, Article
Résumé	tert-Butoxyl abstracts hydrogen from M-H bonds (M = Si, Ge, Sn) with rate constants (300 K) of (0.6-2) × 10 7 (M = Si), ∼9 × 10 7 (M = Ge), and (2-4) × 10 8 M -1 s -1 (M = Sn), respectively. The radicals (alkyl) 3M· show a strong absorption band at λ < 300 nm and a weaker band/shoulder at longer λ that shifts from 320 (M = C) to 390 nm (M = Sn). The spectra of Ph 3M show little sensitivity to the heteroatom. Arylsilyl radicals add readily to their precursors; for example, Ph 3Si· adds to Ph 3SiH with k 4 = (2.1 × 0.4) × 10 5 M -1 s -1 at 300 K.
Date de publication	1983
Dans	Organometallics 2, nº 10 (1983) : 1332–1335.
Langue	anglais
Publications évaluées par des pairs	Oui
Numéro NPARC	21276509
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Identificateur de l’enregistrement	ddcbf719-8bb7-48e8-81d0-451c2d71a4cd
Enregistrement créé	2015-10-13
Enregistrement modifié	2020-03-13