Pulsed laser deposition of pseudocapacitive metal oxide thin films for supercapacitor applications

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.4028/www.scientific.net/MSF.706-709.884
AuteurRechercher : 1
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des matériaux industriels du CNRC
FormatTexte, Article
Conférence7th International Conference on Processing and Manufacturing of Advanced Materials, THERMEC'2011, 1 August 2011 through 5 August 2011, Quebec City, QC
SujetAmorphous phase; Aqueous electrolyte; Cyclic durability; Different substrates; Electrochemical capacitor; Material research; Metal oxide thin films; Oxygen gas pressure; Oxygen pressure; PLD process; Polycrystalline; Pseudocapacitive; Scan rates; Specific capacitance; Stainless steel substrates; Super capacitor; Supercapacitor application; Ultracapacitors; Amorphous films; Amorphous materials; Capacitance; Capacitors; Cyclic voltammetry; Deposition; Manganese; Manganese oxide; Metallic compounds; Oxide films; Oxides; Oxygen; Programmable logic controllers; Pulsed laser deposition; Sodium; Stainless steel; Substrates; Thin films; Vapor deposition; X ray diffraction; Pulsed lasers; Manganese
Résumé
Date de publication
Dans
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC21269325
Exporter la noticeExporter en format RIS
Signaler une correctionSignaler une correction (s'ouvre dans un nouvel onglet)
Identificateur de l’enregistremente406e215-db66-45d1-ad6c-e4d07ed49b07
Enregistrement créé2013-12-12
Enregistrement modifié2020-04-21
Date de modification :