| DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1109/ICO-IP.2011.5953786 |
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| Auteur | Rechercher : Halir, R.; Rechercher : Molina-Fernández, Í.; Rechercher : Cheben, P.1Identifiant ORCID : https://orcid.org/0000-0003-4232-9130; Rechercher : Schmid, J.H.1; Rechercher : Ma, R.1; Rechercher : Janz, S.1; Rechercher : Xu, D.-X.1; Rechercher : Densmore, A.1; Rechercher : Fédéli, J.-M. |
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| Affiliation | - Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
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| Format | Texte, Article |
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| Conférence | 2011 ICO International Conference on Information Photonics, IP 2011, 18 May 2011 through 20 May 2011, Ottawa, ON |
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| Sujet | DUV lithography; effective media; effective medium; grating couplers; high-volume production; single etch; sub-wave length grating; sub-wavelength structures; photonics |
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| Résumé | Fibre-to-chip grating couplers are an efficient means for injecting and extracting light from silicon-wire waveguides. Here we present the design of single-etch couplers, based on effective media implemented with sub-wavelength gratings. We show that the pitch of these sub-wavelength structures can be increased to make their fabrication compatible with deep-ultraviolet lithography, without compromising their effective medium behavior. We experimentally demonstrate fully-etched grating couplers fabricated with DUV lithography. © 2011 IEEE. |
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| Date de publication | 2011 |
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| Dans | |
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| Langue | anglais |
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| Publications évaluées par des pairs | Oui |
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| Numéro NPARC | 21271564 |
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| Identificateur de l’enregistrement | 2fe57029-43c7-4cc9-9466-7324d8ff0df1 |
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| Enregistrement créé | 2014-03-24 |
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| Enregistrement modifié | 2020-04-21 |
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