Fabrication of kinoform structures by electron beam lithography using resist contrast curve polynomial fitting

Auteur	Rechercher : Bogdanov, A.
Format	Texte, Article
Conférence	11th Canadian Semiconductor Technology Conference, 2003, Ottawa
Numéro NPARC	12346636
Exporter la notice	Exporter en format RIS
Signaler une correction	Signaler une correction (s'ouvre dans un nouvel onglet)
Identificateur de l’enregistrement	365d6ec1-f6e7-4899-b22e-a0a497d42569
Enregistrement créé	2009-09-17
Enregistrement modifié	2020-04-16