Suppression of interfacial reaction for HfO2 on Silicon by pre-CF4 plasma treatment

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.2337002
AuteurRechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : 1; Rechercher : 2
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
  2. Conseil national de recherches du Canada. Institut des étalons nationaux de mesure du CNRC
FormatTexte, Article
Date de publication
Dans
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC12744450
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Identificateur de l’enregistrement406ce93d-78db-4e58-8fa5-b2b9b0387d0d
Enregistrement créé2009-10-27
Enregistrement modifié2023-05-10
Date de modification :