Atomic Layer Deposition of Hafnium Silicate Thin Films Using Tetrakis(diethylamido)hafnium and Tris(2-methyl-2-butoxy)silanol
Atomic Layer Deposition of Hafnium Silicate Thin Films Using Tetrakis(diethylamido)hafnium and Tris(2-methyl-2-butoxy)silanol
DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1149/1.3137053 |
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Affiliation |
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Format | Texte, Article |
Date de publication | 2009 |
Dans | |
Langue | anglais |
Publications évaluées par des pairs | Oui |
Numéro NPARC | 12441141 |
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Identificateur de l’enregistrement | 5eecfa14-2819-431f-8c40-ddd7791d189a |
Enregistrement créé | 2009-09-25 |
Enregistrement modifié | 2023-04-19 |
- Date de modification :