Adhesion Evaluation of Plasma-Deposited Si3N4 and SiO2 Thin Films on Si by the Scratch Method
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Affiliation |
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Format | Texte, Autre |
Emplacement | Vancouver |
Condition d’accès |
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Numéro du CNRC | SMPL-1995-0058 |
Numéro NPARC | 8929198 |
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Identificateur de l’enregistrement | 637a1218-0a45-466e-8fbb-f1f8632f5ca5 |
Enregistrement créé | 2009-04-23 |
Enregistrement modifié | 2020-03-03 |
- Date de modification :