AlGaN/GaN field effect transistors with C-doped GaN buffer layer as an electrical isolation template grown by molecular beam epitaxy

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1016/j.sse.2005.01.012
AuteurRechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : ; Rechercher : 2; Rechercher : 1
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
  2. Conseil national de recherches du Canada. Institut Steacie des sciences moléculaires du CNRC
FormatTexte, Article
Date de publication
Dans
Numéro NPARC12744694
Exporter la noticeExporter en format RIS
Signaler une correctionSignaler une correction (s'ouvre dans un nouvel onglet)
Identificateur de l’enregistrement65e231f5-2132-4216-bde0-a1f09997239f
Enregistrement créé2009-10-27
Enregistrement modifié2020-04-07
Date de modification :