Strain studies of silicon-germanium epilayers on silicon substrates using Raman spectroscopy
Strain studies of silicon-germanium epilayers on silicon substrates using Raman spectroscopy
| DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.109784 |
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| Format | Texte, Article |
| Date de publication | 1993-08-30 |
| Dans | |
| Langue | anglais |
| Numéro du CNRC | 1125 |
| Numéro NPARC | 8899978 |
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| Identificateur de l’enregistrement | 69b6bfb5-59ad-4c6a-a204-aef243081f17 |
| Enregistrement créé | 2009-04-22 |
| Enregistrement modifié | 2020-04-24 |
- Date de modification :