Low temperature plasma etching for Si3N4 waveguide applications

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1116/1.2836424
AuteurRechercher : 1; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher : ; Rechercher :
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
Date de publication
Dans
Numéro NPARC12744647
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Identificateur de l’enregistrement800aa0a3-663d-4393-af30-2aabd23dcfa8
Enregistrement créé2009-10-27
Enregistrement modifié2020-04-15
Date de modification :