Process windows of nickel and platinum silicides in deep sub-micron regime
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Affiliation |
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Format | Texte, Article |
Conférence | 1995 MRS Fall Meeting: Silicide Thin Films: Fabrication, Properties, and Applications Symposium, Boston, Massachusetts, November 27-30, 1995 |
Date de publication | 1996 |
Dans | |
Série | |
Numéro NPARC | 12330138 |
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Identificateur de l’enregistrement | 83b22300-01c0-4c84-ba49-607465a6cce4 |
Enregistrement créé | 2009-09-10 |
Enregistrement modifié | 2020-03-20 |
- Date de modification :