Process windows of nickel and platinum silicides in deep sub-micron regime

Par Conseil national de recherches du Canada

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Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
Conférence1995 MRS Fall Meeting: Silicide Thin Films: Fabrication, Properties, and Applications Symposium, Boston, Massachusetts, November 27-30, 1995
Date de publication
Dans
Série
Numéro NPARC12330138
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Identificateur de l’enregistrement83b22300-01c0-4c84-ba49-607465a6cce4
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2020-03-20
Date de modification :