Téléchargement | - Voir le manuscrit accepté : All-optical elastic characterization of silicon wafers and cantilevers beams by vibration modes (PDF, 882 Kio)
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DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1063/1.2184711 |
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Auteur | Rechercher : França, D. R.1; Rechercher : Blouin, A.1 |
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Affiliation | - Conseil national de recherches du Canada. Institut des matériaux industriels du CNRC
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Format | Texte, Article |
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Conférence | The 32th Annual Review of Progress in Quantitative Nondestructive Evaluation, July 31 - August 05 2005, Brunswick, Maine, USA |
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Résumé | An all-optical technique is developed to determine elastic parameters of both semiconductor wafers and cantilever beams through optical excitation and detection of vibration modes. Resonance frequency measurements of these modes are used to determine the materials Young’s modulus and Poisson’s ratio. The technique is remote, non-destructive and works on-line, making it an attractive inspection tool for use in semiconductor foundries and MEMS industries. Experimental results are compared with the values calculated by the theory of elasticity. |
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Date de publication | 2006-03-06 |
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Dans | |
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Série | |
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Langue | anglais |
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Publications évaluées par des pairs | Oui |
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Numéro du CNRC | NRCC 48844 |
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Numéro NPARC | 15877974 |
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Identificateur de l’enregistrement | 98ffbbca-a973-43df-8c76-de18b43b83a8 |
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Enregistrement créé | 2010-07-30 |
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Enregistrement modifié | 2020-04-22 |
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