Growth of SiO2 at the Sc2O3/Si100 interface during annealing

Autre titre	Silicon Nitride and Silicon Dioxide Thin Films VII
Auteur	Rechercher : Botton, G.; Rechercher : Romain, E.; Rechercher : Landheer, Dolf¹; Rechercher : Wu, X.; Rechercher : Wu, M-Y; Rechercher : Lee, M.; Rechercher : Lu, Z-H
Affiliation	Conseil national de recherches Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
Format	Texte, Article
Conférence	Spring ECS Meeting, March 23-April 1, 2003, Paris, France
Numéro NPARC	12346215
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Identificateur de l’enregistrement	9dcca308-697d-453c-afdd-1f78b51a0bef
Enregistrement créé	2009-09-17
Enregistrement modifié	2020-04-16

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