Simulation of the hole and current distributions in Si-Ge p-channel FETs with graded profiles

Par Conseil national de recherches du Canada

Autre titreSimulation of the hole and current distributions in Si-Ge p-channel FETs with graded Ge profiles
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Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
Conférence1995 Second International Semiconductor Device Research Symposium (ISDRS '95), December 5-8, 1995, Charlottesville, Virginia, USA
Date de publication
Maison d’éditionSchool of Engineering and Applied Science
Dans
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro NPARC12328252
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Identificateur de l’enregistrementa48607af-8b46-4e2e-ac6b-e3935e90f2e4
Enregistrement créé2009-09-10
Enregistrement modifié2021-05-31
Date de modification :