Directions in nanofabrication

Par Conseil national de recherches du Canada

DOI	Trouver le DOI : https://doi.org/10.1007/978-3-7091-0424-8_1
Auteur	Rechercher : Dew, Steven K.¹; Rechercher : Stepanova, Maria¹
Affiliation	Conseil national de recherches Canada. Institut national de nanotechnologie
Format	Texte, Chapitre de livre
Sujet	atomic layer deposition; chemical mechanical polishing; electron beam lithography; nanoimprint lithography; nanofabrication technique
Résumé	Nanotechnology is dependent on nanofabrication techniques to structure matter at the 1–100 nm lengthscale. In this book, a variety of nanofabrication techniques are described, including those for lithography using electron and helium ion beams or nanoimprint lithography; for deposition using atomic layer deposition, surface monolayer formation, block copolymers, or electroepitaxy; and for etching using chemical mechanical polishing, ion beam induced reactions, laser nanopatterning, or anodic oxide templating. In each case, principles, methodology, equipment and process parameters are described, along with capabilities and example applications. Taken together, these represent a powerful toolbox of the rapidly evolving pool of nanofabrication techniques.
Date de publication	2011-10-04
Maison d’édition	Springer, Vienna
Dans	Nanofabrication: Techniques and Principles (2012) : 3–8. https://doi.org/10.1007/978-3-7091-0424-8.
Langue	anglais
Publications évaluées par des pairs	Oui
Numéro NPARC	21275852
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Identificateur de l’enregistrement	abefe548-55a1-4eb0-b7cd-b7b9d5080d0b
Enregistrement créé	2015-07-14
Enregistrement modifié	2020-09-01

Date de modification :: 2026-02-13