Characteristics of reactive magnetron sputtered ZnO films
Characteristics of reactive magnetron sputtered ZnO films
DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1109/ULTSYM.1989.67012 |
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Affiliation |
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Format | Texte, Article |
Conférence | Proceedings of the IEEE Ultrasonics Symposium, 3-6 Oct. 1989, Montreal, Quebec, Canada |
Sujet | Zinc oxide; Substrates; Piezoelectric films; Plasma measurements; Sputtering; Plasma temperature; Semiconductor films; Scanning electron microscopy; Crystallization; Cathodes |
Résumé | |
Date de publication | 1989-10-06 |
Maison d’édition | IEEE |
Dans | |
Langue | anglais |
Publications évaluées par des pairs | Oui |
Numéro du CNRC | CNRC 30340 NRC-IGM89AP-401-892-G |
Numéro NPARC | 23004235 |
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Identificateur de l’enregistrement | bd2ce229-4648-4490-b089-01daebf5c84b |
Enregistrement créé | 2018-10-12 |
Enregistrement modifié | 2020-03-17 |
- Date de modification :