Characteristics of reactive magnetron sputtered ZnO films

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1109/ULTSYM.1989.67012
AuteurRechercher : 1; Rechercher : 1; Rechercher : 1
Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada
FormatTexte, Article
ConférenceProceedings of the IEEE Ultrasonics Symposium, 3-6 Oct. 1989, Montreal, Quebec, Canada
SujetZinc oxide; Substrates; Piezoelectric films; Plasma measurements; Sputtering; Plasma temperature; Semiconductor films; Scanning electron microscopy; Crystallization; Cathodes
Résumé
Date de publication
Maison d’éditionIEEE
Dans
Langueanglais
Publications évaluées par des pairsOui
Numéro du CNRCCNRC 30340
NRC-IGM89AP-401-892-G
Numéro NPARC23004235
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Identificateur de l’enregistrementbd2ce229-4648-4490-b089-01daebf5c84b
Enregistrement créé2018-10-12
Enregistrement modifié2020-03-17
Date de modification :