3D GOI CMOSFETs with Novel IrO2(Hf) Dual Gates and High-k Dielectric on 1P6M-0.18μm-CMOS

Par Conseil national de recherches du Canada

DOITrouver le DOI : https://doi.org/10.1109/IEDM.2004.1419101
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Affiliation
  1. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences biologiques du CNRC
  2. Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
FormatTexte, Article
Date de publication
Dans
Numéro NPARC12744062
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Identificateur de l’enregistrementc2e3b6d2-adaf-4a6f-8c55-f08f3f07aa34
Enregistrement créé2009-10-27
Enregistrement modifié2020-04-17
Date de modification :