| DOI | Trouver le DOI : https://doi.org/10.1149/1.3206616 |
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| Auteur | Rechercher : Liu, J.; Rechercher : Wu, X.1; Rechercher : Lennard, W. N.; Rechercher : Landheer, D.1 |
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| Affiliation du nom | - Conseil national de recherches du Canada. Institut des sciences des microstructures du CNRC
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| Format | Texte, Article |
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| Résumé | Hf distributions in as-grown and annealed (HfO2)0.25(SiO2)0.75 films with thicknesses in the range 4-13 nm were investigated by high resolution transmission electron microscopy (HRTEM), angle resolved X-ray photoelectron spectroscopy (ARXPS) and medium energy ion scattering (MEIS). HRTEM images show a layered structure in films thinner than 8 nm. ARXPS data also show a non-uniform distribution of Hf throughout the film depth. A diffusion of SiO2 to the film surface after a longer time anneal was observed by MEIS. All these observations provide evidence for surface-directed spinodal decomposition in the pseudobinary (HfO2)x(SiO2)1-x alloy system. |
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| Date de publication | 2009 |
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| Dans | |
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| Langue | anglais |
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| Publications évaluées par des pairs | Oui |
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| Numéro NPARC | 21276871 |
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| Identificateur de l’enregistrement | cb2f666e-e529-4ec1-91b3-b0a0c3877302 |
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| Enregistrement créé | 2015-10-27 |
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| Enregistrement modifié | 2020-04-16 |
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